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Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性
更新時(shí)間：2026-02-09
訪(fǎng)問(wèn)量：131
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
生產(chǎn)地址：德國(guó)
簡(jiǎn)要描述：
Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性 化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性LD-A-級(jí)CaF?晶體具備 化學(xué)惰性，在常溫下不與強(qiáng)酸（除濃H?SO?、HF外）、強(qiáng)堿、有機(jī)溶劑發(fā)生反應(yīng)，可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕，表面無(wú)變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無(wú)潮解、霧化
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥 |
Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性
化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性
LD-A-級(jí)CaF?晶體具備 化學(xué)惰性，在常溫下不與強(qiáng)酸（除濃H?SO?、HF外）、強(qiáng)堿、有機(jī)溶劑發(fā)生反應(yīng)，可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕，表面無(wú)變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無(wú)潮解、霧化問(wèn)題。
此外，晶體的抗輻射性能經(jīng)優(yōu)化，在193nm高功率激光長(zhǎng)期輻照（累計(jì)能量≥10? J/cm2）下，無(wú)明顯的色心形成，光學(xué)性能衰減≤1%，遠(yuǎn)優(yōu)于普通CaF?晶體（衰減≥5%），保障光學(xué)元件的長(zhǎng)壽命使用，降低高光學(xué)系統(tǒng)的維護(hù)成本。
Hellma LD-A-級(jí)CaF?（193nm）核心技術(shù)參數(shù)表
| 參數(shù)類(lèi)別 | 具體指標(biāo) | 測(cè)試條件/說(shuō)明 |
| 線(xiàn)性吸收系數(shù) | ≤0.001 cm?1 | λ=193nm，室溫 |
| 193nm透光率 | ≥92% | 厚度10mm，未鍍膜 |
| 光學(xué)均勻性 | Δn≤1×10??/cm | 20℃，λ=632.8nm |
| 雙折射 | ≤5×10?? | 193nm波段 |
| 熱膨脹系數(shù) | 18.9×10?? K?1 | 20℃~200℃ |
| 熱導(dǎo)率 | 9.7 W/(m·K) | 25℃ |
| 維氏硬度 | 158 HV | 500g載荷 |
| 抗激光輻照性能 | 性能衰減≤1% | 累計(jì)能量≥10? J/cm2@193nm |
| 表面粗糙度 | Ra≤0.5nm | 拋光面 |
| 化學(xué)惰性 | 耐酸堿/有機(jī)溶劑（除HF、濃H?SO?） | 常溫，浸泡72小時(shí)沈陽(yáng)漢達(dá)森yyds吳亞男 |
Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性
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